过滤棉厂家
免费服务热线

Free service

hotline

010-00000000
过滤棉厂家
热门搜索:
技术资讯
当前位置:首页 > 技术资讯

汉微科多枪机台明年出货分食光学检测市场

发布时间:2020-06-29 17:18:48 阅读: 来源:过滤棉厂家

电子束量测设备大厂汉微科(3658)推进研发能量,总经理招允佳指出,汉微科的多枪式(Multi-gun)机台原型机已完成开发,明年底可量产出货,因多枪检测设备可拉高产出效率,对随机缺陷(random defect)的检测能力显著提升,加上电子束可用于测定电性缺陷,预期多枪与单枪机种将锁定不同市场,甚至有机会瓜分到传统光学检测设备的市场。

汉微科总经理招允佳估计,2013年全球电子束检测设备市场规模约2亿美元,今年随逻辑IC厂切入1X奈米製程、记忆体厂则卡位3D NAND的生产,电子束检测在製程式控制制领域角色更加吃重,预期2014年电子束检测设备市场规模落在2.7至3亿美元区间。

汉微科除以eScan320、eScan500等单枪式检测机台站稳85%以上市佔率,更积极投入研发资源,开发可大举拉高产出率(throughput)的多枪式机台。

汉微科总经理招允佳表示,汉微科的多枪机台原型机已完成,明(2015)年年底将有6枪产品量产,最多更可扩充到12枪,目前正处于机台校正阶段、锁定半导体厂的10-15奈米製程节点,预估在2016年就会产生营收贡献。

招允佳指出,汉微科多枪式机台原设计应用在EUV(极紫外光)光罩检测,不过EUV技术发展进度略踩刹车,汉微科已将多枪式机台主要应用端转移到晶圆随机缺陷的检测,和单枪式机台主打热点检测(defect hotspot)的功能有所区别。

招允佳说明,单枪产品主要专长在缺陷热点区域进行逐一扫瞄,可有效率地判定缺陷种类,而多枪产品因检测速度加快,产出率显著提升,还可测定3D NAND、FinFET的电晶体电性缺陷(electrical defect)、底层缺陷、鳍边缺陷(side-wall defect)等,更适合在1X奈米的先进製程中作为随机缺陷(random defect)的检测工具,有机会和专擅于随机检测的光学设备一争高下,进而瓜分到光学机台市佔率。

招允佳强调,到了2X奈米时代,所有的半导体晶圆大厂均需引进电子束设备,尤其製程从20奈米降到16奈米更引出全新的缺陷问题,随著半导体先进製程愈发精密,良率(yield)提升已成半导体厂决胜关键,晶圆厂对检测工具的殷切需求,将持续推高汉微科动能。

在此同时,汉微科机台的应用领域,也成功跨出晶圆缺陷检测,挥军包括Overlay(层迭校准製程)、OPC(Optical Proximity Correction, 光学距离修正)服务、晶圆校正(Metrology)等领域,并于去年就已经有一些初步的成果,今年将投入更多的资源在包括电子显微镜(SEM)等新应用的开发。今年新应用领域对于汉微科的营收贡献将更明显。

汉微科去年营收、机台出货数与获利全数创下新高,全年营收达53.4亿元,年增28%,毛利率为70%、营益率45%,全年税前盈馀为25.55亿元,税后盈馀23.47亿元,年增54%,EPS为35.09元。汉微科看好今年下半年营收将优于上半年,全年营收年增率目标订在25-30%,毛利率与营益率则分别要维持在去年的70%、45%高水位。

留学生回国代理

翻墙回国教程

海外翻墙回国内看视频

海外ip看国内视频

相关阅读